氮化鈦塗層 具有熔點高，化學穩定性好，硬度大，導電、導熱和光性能好等，使其在各個領域都有著非常重要的用途，尤其是在新型金屬陶瓷領域和代金裝飾領域方麵。

常用的濺射氮化鈦塗層是入射粒子和靶碰撞，靶原子被撞後，獲得滿足能量，脫離靶材，堆積於基體上。為了提高濺射功率，加入了磁控技術。選用的磁控濺射源中的磁場為均勻關閉磁場的方法，此方法被稱作平衡磁控濺射法。此方法無論是平麵靶仍是柱狀靶，都是使用平行於靶麵的磁場分量來約束二次電子在靶麵做螺旋線運動。以此提高氬氣的離子化率和提高濺射速率。

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